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2024-11-19 11:01:10
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光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机根据应用工序不同,可以分为用于生产芯片、用于封装和用于LED制造;按照曝光光源,可分为紫外光源(UV)、深紫外光源(DUV)、极紫外光源(EUV);按照曝光方式,可分为接触式光刻、直写式光刻、投影式光刻。据统计,2023年我国光刻机产量为124台,需求量为727台,市场规模为160.87亿元。
近年来,在国家政策的扶持以及一批龙头企业的带领下,我国光刻机技术也开始了飞速的发展,国内光刻机生产商主要有SMEE、芯碁微装、影速、科视光学、源卓微纳、图双精密、鸿源鼎芯、ICRD等。其中SMEE(上海微电子装备(集团)股份有限公司)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。芯碁微装专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发和生产。主要产品及服务包括PCB直接成像设备及自动线系统、泛半导体直写光刻设备及自动线系统、其他激光直接成像设备。科视光学是一家PCB直接成像设备,泛半导体直写光刻设备、LED全自动及半自动曝光设备研发、生产、销售、服务于一体的国家高新技术企业。
2:除一手调研信息和数据外,国家统计局、中国海关、行业协会、上市公司公开报告(招股说明书、转让说明书、年报、问询报告等)等权威数据源亦共同构成本报告的数据来源。一手资料来源于研究团队对行业内重点企业访谈获取的一手信息数据,主要采访对象有企业高管、行业专家、技术负责人、下游客户、分销商、代理商、经销商以及上游原料供应商等;二手资料来源主要包括全球范围相关行业新闻、公司年报、非盈利性组织、行业协会、政府机构及第三方数据库等。
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